大家都知道，近年来，老美一直在用各种手段打压遏制中国芯的发展，其中就包括联合日本、荷兰组成三方联盟来组团围堵中国芯片的发展。前不久，日本已经公开表示要全面限制向中国出口26种半导体设备。而荷兰也迫于压力，不得不要求荷兰光刻机巨头ASML禁止向中国出口EUV光刻机，并加大对浸润式DUV光刻机的出口限制。但是，从自身发展利益来说，ASML并不情愿。在浸润式DUV设备也被老美限售后，ASML高管就曾多次发出反对的声音，剑指拜登。甚至在前不久，ASML总裁温宁克还公开指责称：一些国家所谓的“安全计划”，将导致半导体行业产生“连锁反应”。ASML深知中国市场的重要性，无论如何也不能失去中国市场。为此，就在老美禁令生效后，ASML仍然没有放弃向中国市场出售光刻机。为了不让老美起疑，ASML强调禁令并不是针对所有的DUV光刻机，仍有很大一部分较旧型号的DUV机器可以向中国出货的，比如TWINSCAN NXT:1980Di及以下制程的设备。就在近期，ASML又向中国出售了超过100台这种类型的DUV光刻机。实际上，这些机器仍是目前中国市场的主力军，得益于中国新能源汽车和电子产品的迅猛发展，急需用它们来制造14nm、28nm及以上的芯片。
更让人意想不到的是，ASML高管还曾多次表示要在中国建厂，项目预计总投资为60亿美元，并且计划在4年内逐步实现规模化生产。这次在中国建厂，或许也是ASML紧抓中国市场的一个重要措施。据了解，这次在中国建厂，也将是ASML历史上建设的最大规模工厂。就在ASML对中国采取动作之后，近日，ASML的关键零部件供应商KMWE也公开发声，宣布也将来华建厂。据KMWE公司高管透露，如果不是老美发动了芯片战争，我们也不会做出这样艰难的决定。为了能配合ASML向中国出货更多的产品，在中国建厂自然是最佳选择。那么问题来了！在老美禁令生效后，为什么ASML和其供应商KMWE敢不顾及老美面子，加强在中国市场的投入，加紧在中国市场的布局呢？笔者认为有以下四方面原因。因为全球芯片市场需求萎缩，欧美芯片大厂纷纷宣布裁员，这严重打击了三星、台积电、英特尔等芯片巨头的投资积极性。数据显示，从2022年下半年起，芯片巨头纷纷开始削减开支，英特尔削减30亿美元，台积电最高也削减了80亿美元，三星削减居然超过50%。还有，台积电、三星、英特尔是ASML最大的3个客户，3家大幅削减资本开支，ASML势必会受到严重影响。还有消息传出，台积电已经砍掉了40%的EUV光刻机订单，这让ASML几乎无法承受。其二是因为目前先进工艺产能过剩，而成熟工艺芯片却非常紧缺。有数据显示，ASML的EUV光刻机产能目前只有65台，出货量本身就不大，再加上被台积电砍掉40%，那对ASML的打击的确是致命性的。另外，DUV光刻机主要用于生产成熟工艺芯片，目前中芯国际已经建有4座12英寸晶圆厂项目，华虹半导体也正在修建12英寸晶圆厂，还有其它厂商的芯片制造项目也竞相上马，再加上中国早已定下目标，芯片自给率要达到70%，可以预见，未来中国对DUV光刻机的需求会持续增长。这么大一块肥肉，ASML怎么可能舍得放弃呢？所以，即便是有三方协议的禁令限制，ASML仍要大胆向中国出货。其三是因为ASM担心中国研发出光刻机，导致自己失去中国市场，加快出货。近段时间，中国在光刻机方面取得的突破一个接一个，尤其是去年下半年哈工大成功研发真空用超高精度激光干涉仪，而今年4月份，哈工大又成功实现了DPP-EUV光源技术。此外，据悉上海微电子又成功开发出型号为TWL6036的光刻机，在多重曝光工艺下，可用于14nm及以下工艺的芯片。此消息不管是否属实，但都让ASML感受到了前所未有的危机。这意味着国内厂商已经逐渐降低了对ASML光刻机的依赖，更多地采用国产光刻机，如果一旦中国真的研发出更先进的光刻机，那么ASML恐怕真要失去中国市场了。其四是因为占领中国市场也是ASML增强全球竞争力迈出的重要一步。
在全球半导体产业风云变幻的今天，作为全球高端光刻机制造商，ASML必须要加强在全球市场的竞争力。而中国市场正是其中非常关键的一环。因为中国市场的需求非常旺盛，ASML在中国建厂将是ASML占领中国市场的利器。只有这样，ASML才能实现本地化制造，把成本降到最低，同时也可以建立完整的技术服务体系。当然，客观上，ASML也能为中国芯片产业的发展添砖加瓦，就像当年我国引进特斯拉一样，产生巨大的鲶鱼效应。总而言之，荷兰两大光刻机巨头都是出于自身的利益考量而选择与中国合作，其真正目的并不是为了中国芯的发展，而是为了占领中国市场。因此，我们要清醒地认识到这一点。而我们要做的是不遗余力，继续潜心攻关光刻机相关技术，早日研制出国产更先进制程的光刻机，将核心技术牢牢掌握在自己手里，才是根本的应对之策！
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